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規格介紹:
日本DIV-奈米鍍層設備(先進電極製作製程)
規格介紹:日本DIV-奈米鍍層設備(先進電極製作製程)
製程目的: 應用低黏度電極漿料。
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優點:
1.均化電極厚度 ，降低電極漿料用量。
2.避免氣泡產生。
3.延長電極漿料操作時間。
好處:
1.改善電鍍液滲入或殘留狀況。
2.改善電極大小頭狀況發生。
3.AOI & 測包站良率及效率提升。
4.容值最大化。可減少堆疊層數。
詳細介紹:
改善電極在電鍍後擴散
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改善電極厚度均勻性
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容值利用最大化說明
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